半導體光刻光源的主要供應商Gigaphoton株式會社(母公司：栃木縣小山市，董事長：浦中克己)宣布，為提高設備的工作效率，公司將制定新的產品規劃圖，以應對需求量不斷高漲的半導體廠家的要求。

　　Gigaphoton此次制定的產品規劃圖“RAM Enhancement”加強了DUV光源受激準分子激光器的可靠性(Reliability)、可用性(Availability)以及可維護性(Maintainability)。公司已經開始行動，將在2020年前打破被業界定位為極限的“工作效率99.8%的壁壘”。

　　在半導體芯片生產中，光刻工序的工作效率是最大的影響要素。因此，為最大限度地提高設備的工作效率，必須保證“長期穩定的工作”，以及“最短的維修時間”。Gigaphoton為解決這些問題，將延長模塊壽命，派遣現場工程師提高設備的服務性能，實現盡可能不停止設備運轉的維修。

　　首先，為保證“長期穩定的工作”，將最新ArF液浸光刻裝置的主要模塊，包括腔體(AMP CH)、窄帶域模塊(LNM)、監視模塊(MM)的壽命分別延長到120Bpls。其次，為實現“最短的維修時間”，將追加預測裝置壽命及自動計算維修時點的軟件。

　　通過這一系列的措施，截止2020年，面向所有客戶的必要維修次數將降低到每年一次，模塊更換時間減少到原來的一半，可望打破工作效率99.8%的壁壘。(假定內存芯片廠家的脈沖使用量為每年60Bpls。)

　　Gigaphoton董事長浦中克已評價說：“由于近年來半導體芯片的需求量高，半導體生產設備的工作效率愈發重要。我們推行的產品規劃‘RAM Enhancement’就是為滿足這樣的客戶需求而制定的。今后，Gigaphoton也將結合客戶需求和市場動向，繼續提供最合適的解決方案。”