2012年3月，東方集成在上海某研究所成功安裝了SENTECH SI500D等離子體沉積系統。SI500D等離子沉積系統是ICP-PECVD設備，用于在基片上沉積 SiOx, SiOxNy或 SiNy薄膜。沉積薄膜的厚度、折射率、應力可以簡單的、連續的調節。

　　這是帶LOADLOCK的SI500D等離子沉積系統在中國的第一次安裝。SENTECH ICP-PECVD設備的安裝，由德國原廠技術支持工程師和東方集成工程師共同完成，由SENTECH和東方集成共同承擔售后保修，具有標志性的歷史意義。　　

本次的安裝，體現了東方集成為客戶考慮，將工作做完美的一貫宗旨;也標志著，SENTECH中國區等離子體刻腐蝕和沉積系統業務在與東方集成的合作中進入了飛速、穩定的發展。