SUSS MicroTec AG的全資子公司HamaTech APE GmbH & Co. KG近日宣布，已接到幾十份MaskTrack Pro設備訂單。MaskTrack Pro于2009年投產，是用于下一代光刻領域的完整掩膜流程平臺。

　　對于亞22nm 193nm浸沒式光刻、EUVL深紫外光刻、NIL接觸式納米壓印技術等先進光刻工藝的掩膜版，MaskTrack Pro是目前已知唯一可以實現清洗、烘烤和顯影步驟的設備。MaskTrack Pro結合物理和化學清洗技術，能有效去除有機和無機污染物，而不破壞易受損的掩膜版線條和材料結構。MaskTrack Pro使用獨特的ASonic®專利顯影技術，以及先進的曝光后烘烤方式，能幾近完美地實現關鍵尺寸的一致性，這對于亞22nm雙重圖形技術尤為重要，可以沉著應對未來先進光刻技術的挑戰。

　　“下一代光刻技術發展，促使MaskTrack Pro的市場加速發展。2011年初，MaskTrack Pro將被諸多全球領先的公司采用。”，HamaTech首席執行官Wilma Koolen-Hermkens介紹道，“我們十分高興地看到，多家客戶已經采購了我們的設備。我們希望MaskTrack Pro能成為業界的標準配置設備。”

　　“實現掩膜版完整流程是MaskTrack Pro平臺設計的中心思想，對先進光刻技術起到了重要作用。” SUSS MicroTec的總裁監首席執行官Frank Averdung說，“感謝我們的客戶和合作伙伴的共同努力，我們研發出了MaskTrack Pro系統，以迎接下一代光刻技術完整掩膜流程的苛刻挑戰。”