“在時代的浪潮中，總有一些企業以其獨特的理念和不懈的努力，書寫著屬于自己的傳奇。”

ENTERPRISE STORY

企業故事

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微納（香港）科技

有限公司(MNT)

微納（香港）科技有限公司(MNT)成立于2014年，總部設在中國香港，是一家專門從事半導體設備與科研設備代理的高科技公司，致力于為中國半導體，材料，機械，醫學，汽車，航天等領域提供國際尖端的制造設備，檢測設備及技術解決方案。

目前， 微納（香港）科技有限公司（MNT）是多家歐美日韓儀器供應商在中國的代理商，主要負責相關設備在中國的銷售，技術支持與售后服務， 產品涵蓋多種晶圓減薄機、CMP化學機械拋光機、CMP后清洗機、晶圓顆粒度測量系統、磁控濺射鍍膜系統、熱蒸發鍍膜系統，電子束蒸發鍍膜系統，納米壓印系統、衍射器件光學參數測量系統，光學散射儀，晶圓厚度測量系統、晶圓翹曲度測量系統、晶圓平整度測量系統、膜厚測量儀，勻膠機、噴膠機、濕法臺、臨時鍵合/解鍵合機、熱板、晶圓貼膜機、晶圓貼片機、掃描超聲顯微鏡，共聚焦拉曼顯微鏡，原子力顯微鏡、光學輪廓儀、納米壓痕儀、微米壓痕儀、納米劃痕儀、微米劃痕儀、摩擦磨損試驗機、快速退火爐、棱鏡耦合儀等諸多產品，客戶遍及中國各大高校、科研院所及著名半導體企業。

我司的服務理念是：

專業成就品質，

服務創造價值，

誠信鑄就品牌！

展品推薦

德國SENTRONICS 晶圓厚度測試系統

樣品尺寸：

4寸、6寸、8寸、12寸

采用紅外光譜技術，要用于測量晶圓的厚度、TTV、Bow、Warp以及wafer上各層薄膜厚度；

采用白光干涉技術，可得到wafer表面的3D形貌，表面粗糙度，TSV等關鍵尺寸，測量范圍為0-100um，分辨率為亞納米水平。

韓國CTS CMP化學機械拋光系統

樣品尺寸：

4寸、6寸、8寸、12寸

采用氣囊加載模式，分區壓力控制（8寸以下分3區，12寸分5區）；

拋光墊修整器分區控制修整（8寸以下分10區，12寸分13區）；

采用直驅線性電機，性能遠遠優于傳統的伺服電機;

片內非均勻性WIWNU 1sigma，去邊5mm< 5%;

片間非均勻性WTWNU 1sigma，去邊5mm< 3%;

德國OSIRIS濕法臺、CMP后清洗機、勻膠機、噴膠機、顯影機、刻蝕機、熱板

兼容：

2、4、6、8、12寸晶圓

手動/全自動（帶機械臂/Cassette）可選；

極高的均勻性及穩定性（勻膠設備均勻性＜1%，濕法刻蝕設備均勻性＜3%）；

濕法刻蝕/清洗設備集成自動混液系統