佳能計劃今年推出低成本芯片制造機，以顛覆芯片制造機行業。負責監督新型光刻機開發的佳能高管武石洋明1月27日接受采訪稱，采用納米壓印技術的佳能光刻設備FPA-1200NZ2C目標今年或明年出貨。

佳能于去年10月宣布推出FPA-1200NZ2C，稱其可制造5納米芯片。佳能方面表示，這款新設備的成本“將比ASML的EUV少一位數”，耗電量也會減少90%。

佳能CEO Fujio Mitarai曾表示，該公司的新納米壓印技術將為小型半導體制造商生產先進芯片開辟一條道路，目前這種技術幾乎完全屬于該行業最大的公司。

在解釋納米壓印技術時，佳能半導體設備業務部長巖本和德（Iwamoto Kazunori）表示，納米壓印技術就是把刻有半導體電路圖的掩模壓印到晶圓上。在晶圓上只壓印1次，就可以在合適的位置形成復雜的二維或三維電路。如果改進掩模，甚至可以生產電路線寬為2nm的產品。目前，佳能的NIL技術使圖案的最小線寬對應5nm節點邏輯半導體。

據悉，5nm芯片制造設備行業由ASML主導，佳能的納米壓印方法或將有助于其縮小差距。

在設備成本方面，巖本和德表示，客戶的成本因條件而異，據估算1次光刻工序需要的成本有時降至傳統光刻設備的一半。納米壓印設備的規模減小，在研發等用途方面也方便引進。佳能CEO Fujio Mitarai曾表示，該公司的納米壓印設備產品的價格將比ASML的EUV（極紫外線）設備低一位數，不過最終的定價決定還沒有做出。

據悉，在客戶方面，佳能目前收到了半導體廠商、大學、研究所的很多咨詢，作為EUV設備的替代產品，納米壓印設備備受期待。該設備可用于閃存、個人電腦用DRAM及邏輯等多種半導體用途。

來源：半導體前沿

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