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?單價超19億!搶先臺積電,英特爾訂購ASML全球首臺最新、最先進的EUV光刻機

發(fā)布人:旺材芯片 時間:2022-01-21 來源:工程師 發(fā)布文章

源:內容整理自聯(lián)合報、快科技


昨日,ASML公布了2021年第4季及全年財報,都創(chuàng)歷年新高且優(yōu)于預期。ASML并宣布去年底及今年都接獲最新一代高數(shù)值孔徑(Hing-NA)極紫外光(EUV),意味ASML在導入 0.55 數(shù)值孔徑High-NA EUV 光刻技術的道路上又邁出了一步。
High-NA EUV 是ASML最新一代光刻設備,雖然ASML未透露下單客戶,但因這項設備被業(yè)界視為做為未來投入環(huán)繞閘極(GAA)技術節(jié)點關鍵微影設備,預料下單廠商應是臺積電或三星,從臺積電稍早公布資本支出高達400億到440億美元,且首度揭露用于2nm先進制程投資,這也意味臺積電在2nm有重大突破,并下單采購High-NA EUV,投入2nm研發(fā)及試產。
臺積電供應鏈透露,臺積電內部規(guī)劃2nm試產部隊于今年第4季正式成軍,這也意味臺積電在先進制程,不會讓三星有任何超車的機會。
不過據(jù)了解,三星也緊急搶購一臺High-NA EUV,并要ASML直接拉到三星工廠內進行測試,創(chuàng)下ASML首創(chuàng)直接先出貨再客戶廠內測試的首例,顯見二大廠在先進制程競賽超乎想象的激烈。
ASML 2021年第4季營收為50億歐元,營收凈額為18億歐元,毛利率54.2%,新增訂單金額71億歐元;2021年全年營收達186億歐元,營收凈額59億歐元,毛利率52.7%。
ASML也公布2022年第一季財測,預估營收凈額約33億到35億歐元,毛利率約49%。ASML計劃宣布2021年每股普通股5.5歐元的總股息 (年增率達100%)。
針對柏林工廠部分建筑物火災的影響評估,ASML表示,根據(jù)目前資料評估,柏林工廠的火災不會對2022年的系統(tǒng)出貨產生重大影響,因此,ASML預估該公司2022年的營收凈額仍可比2021年增長約20%。
ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得 (Peter Wennink) 表示,ASML第4季的營收達到50億歐元,符合財測;由于強勁的升級與服務收入挹注,2021年的毛利率達到54.2%,優(yōu)于財測。
溫彼得進一步指出,去年第4季的新增訂單金額達到71億歐元,其中26億歐元來自0.33 NA和0.55 NA EUV系統(tǒng)訂單。
他說,對ASML來說,2021年是強勁成長的一年。2021年ASML總營收達186億歐元,其中的63億歐元來自于42臺EUV系統(tǒng)。
展望2022年,溫彼得指出,客戶對ASML的系統(tǒng)出貨需求高于我們的生產能力。終端市場的強勁需求為ASML客戶帶來量產更多晶圓的壓力。為了支持客戶,ASML提供客戶在既有機臺上的高生產力升級方案,另一方面也正在努力優(yōu)化工廠的生產周期、增加機臺出貨量。其中一種縮短生產周期的方法是略過在工廠進行測試項目,加速出貨流程,直接在客戶端進行最終測試和正式驗收。盡管這些出貨量的營收認列將被推遲到客戶正式接受之前,但確實為我們的客戶爭取更早獲得晶圓產能的機會。
ASML預期2022年第一季的營收約落在33億歐元到35億歐元間,毛利率約49%,研發(fā)成本約7.6億歐元,管銷費用約2.1億歐元。溫彼得表示:「調降第一季財測的主因是: 大量的快速出貨導致約20億歐元的收入將推遲至后續(xù)季度認列。同時,目前預期有6臺EUV的系統(tǒng)認列將遞延遲至2023年。盡管如此,綜觀2022年,公司預計全年營收成長仍將達到20%。
單價超19億Intel全球首個下單訂購ASML最先進EUV光刻機
1月19日最新消息,Intel宣布第一個下單訂購了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機。
TWINSCAN EXE:5200是ASML的高數(shù)值孔徑EUV光刻機,其吞吐量超每小時220片晶圓(wph)。
從路線圖來看,EXE:5200預計最快2024年底投入使用,2025年開始大規(guī)模應用于先進芯片的生產。
事實上,4年前,ASML的第一代高NA(0.55 NA)光刻機EXE:5000,Intel就是第一個下單的公司。不過當前的7nm、5nm芯片還并非是其生產,而是0.33NA EUV光刻機。
和0.33NA光刻機相比,0.55NA的分辨率從13nm升級到8nm,可以更快更好地曝光更復雜的集成電路圖案,突破0.33NA單次構圖32nm到30nm間距的極限。
外界預計,第一代高NA光刻機EXE:5000會率先用于3nm節(jié)點,至于EXE:5200,按照Intel的制程路線圖,2025年至少是20A或者18A,也就是5nm和5nm+。
此前,ASML發(fā)言人曾對媒體透露,更高的光刻分辨率將允許芯片縮小1.7倍、同時密度增加2.9倍。未來比3nm更先進的工藝,將極度依賴高NA EUV光刻機。
最后不得不說,Intel能搶到第一單,除了和ASML一致緊密合作外,當然也是因為“鈔能力”,Gartner分析師Alan Priestley稱,0.55NA下一代EUV光刻機單價將翻番到3億美元(約合19億元人民幣)。


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關鍵詞: 臺積電

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