- 上海 —— 近日,全球領先的半導體制造設備及服務供應商泛林集團宣布其自維護設備創下半導體行業工藝流程生產率的新標桿。通過與領先半導體制造商合作,泛林集團成功實現了刻蝕工藝平臺全年無間斷運行。在當今半導體工藝環境中,平均清洗間隔時間是限制刻蝕系統生產率提高的主要因素。為了保持穩定的性能,通常需要每月、甚至每周清洗刻蝕工藝腔室,并更換被等離子體工藝腐蝕的部件。2019 年 4 月,泛林集團與客戶攜手達成了一項宏偉目標,實現設備在無需維護清洗的情況下連續運行 365 天,創下里程碑式紀錄。泛林集團自維護設備創生
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泛林集團 無需維護清洗 里程碑式紀錄
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