近日，國際標準化組織（ISO）正式發布了微束分析領域中的一項國際標準：“基于測長掃描電鏡的關鍵尺寸評測方法”（Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM (ISO 21466)），該標準由中國科學技術大學物理學院和微尺度物質科學國家研究中心的丁澤軍團隊主導制定，是半導體線寬測量方面的首個國際標準，也是半導體檢測領域由中國主導制定的首個國際標準，
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