- 近些年,MEMS加速度計因其體積小、功耗低、易于與互補金屬氧化物半導體晶體管集成電路(CMOS IC)整合而受到持續關注。目前已經開發了電容、壓阻、壓電、光學等原理的加速度計,以檢測輸入加速度引起的檢測質量塊位移。在這些技術中,光學方案已被證明具有更高的精度和穩定性,并且不會受到電磁干擾(EMI)。近些年,MEMS加速度計因其體積小、功耗低、易于與互補金屬氧化物半導體晶體管集成電路(CMOS IC)整合而受到持續關注。目前已經開發了電容、壓阻、壓電、光學等原理的加速度計,以檢測輸入加速度引起的檢測質量塊位
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MEMS 硅納米波
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