- 目前，我國潔凈廠房的整體發展速度遠遠低于歐美國家，特別是設計、建造技術還存在很大的差距。電子行業潔凈廠房的建設雖然已經發展到了一個全新的時代，但目前仍不得不面臨技術水平要求相對粗放，設計、施工周期相對緊迫的現狀。這使得精品工程少，能夠做精品工程的企業更少，許多企業都在追求利益最大化，工程質量參差不齊。因此，越是規范的企業所承受的壓力越大。
在電子行業，規范、精細化的要求將滲透到企業的每一個環節，同時對潔凈廠房的建設要求也會越來越高。凈化企業很難僅僅依靠價格優勢、施工速度占領市場，而是要靠新技術和
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電子信息 掩模版 TFT-LCD
- 作為轉移微細圖形的工具，掩模版是TFT-LCD(薄膜晶體管液晶顯示器)制造過程中必不可少的材料，對TFT產業至關重要。由于當前掩模版市場主要被國外企業所壟斷，我國要發展TFT產業，掩模版的國產化顯得尤為重要。
掩模版是產業鏈重要環節
和集成電路的生產一樣，TFT-LCD在制造過程中也需要利用光刻工藝把沉積在基板上的薄膜(金屬、介質或透明導電玻璃等)制作成一定的圖形，這種圖形轉移的母版就是掩模版。對于一種產品而言，其生產過程中有多少次光刻就需要多少張不同圖形的掩模版。
TFT-LCD與
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Micronic TFT-LCD 掩模版
- 發展TFT-LCD掩模版產品，不僅能帶動多項相關產業的發展，形成較為完整的產業鏈，而且可打破國外壟斷局面，提高國產化配套能力，全面提升整機產品的品質和性能，大幅度降低整機制造成本，對推進我國液晶顯示產業技術發展及終端應用產品的技術進步具有積極意義。
中國企業已掌握核心技術
TFT-LCD用掩模版也稱光罩或MASK，是TFT-LCD制造過程中的圖形轉移工具或母版，它用于下游面板行業批量復制生產，主要應用于TFT-LCD黃光段陣列及彩色濾光片的曝光工藝。
清溢光電通過自主技術創新和體制創
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TFT-LCD MASK 掩模版
掩模版介紹
photomask
在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。
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