Extreme Ultra-violet
EUV lithography is described in detail
用于高端邏輯半導體量產的EUV(Extreme Ultra-Violet,極紫外線光刻)曝光技術的未來藍圖逐漸“步入”我們的視野,從7nm階段的技術節點到今年(2019年,也是從今年開始),每2年~3年一個階段向新的技術節點發展…
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EUV lithography equipment market
根據外媒報導,已經多年蟬聯全球半導體設備龍頭的美商應材公司(Applied Materials),2019年可能將其龍頭寶座,讓給以生產半導體制造過程中不可或缺曝光機的荷蘭ASML,原因是受惠即紫外光刻設備(EUV)的市場需求大增,進一步拉抬了ASML的市占率表現…
光刻技術指利用光學-化學反應原理,將電路圖轉移到晶圓表面的工藝技術,光刻機是光刻工序中的一種投影曝光系統。其包括光源、光學鏡片、對準系統等。在制造過程中,通過投射光束,穿過掩膜板和光學鏡片照射涂敷在基底上的光敏性光刻膠…