諾發系統有限公司日前宣布推出VECTOR Extreme™等離子增強化學氣相沉積(PECVD)系統 ，該系統每小時的產量高達250片晶圓，是業界最快的PECVD設備。與市場上的其它系統相比，VECTOR Extreme可使芯片制造商的平均生產周期縮短40%以上。另外，工廠的晶圓庫存也將顯著降低，使客戶能靈活應對半導體市場不斷變化的需求。

消費電子與電腦產品對固態存儲器的需求不斷增加促使制造DRAM及NAND閃存器件工廠的產能迅速增加。由于典型存儲器件的制造過程需要二十多道PECVD工序，因此在這些業界一流的高產能存儲器工廠中，PECVD系統生產量已日益成為影響總體生產周期時間與晶圓庫存水平的重要因素。

諾發公司的VECTOR Extreme平臺通過將三個多站式順序處理模塊以及多達12個沉積站集成在一個中心晶圓傳送室上，實現了業界最高的PECVD生產量。當使用這種配置沉積存儲器件生產通常使用的較厚薄膜時，VECTOR Extreme可實現的生產量將是最接近競爭對手的兩倍以上。

“隨著存儲器工廠紛紛上線運行每月計劃晶圓產量超過100,000片的生產線，一個對系統生產量有特殊要求的全新PECVD細分市場已經出現。”諾發公司電介質事業部總經理兼高級副總裁Tim Archer先生指出， “VECTOR Extreme吸引了這些超級晶圓廠的注意，因為該設備的生產量高，從而能夠減少總設備數，縮短工廠生產周期，從而有助于最小化晶圓庫存并降低最終產品成本。”

諾發公司VECTOR系列的其它PECVD產品包括VECTOR Express™（于2007年3月推出）以及可實現可灰化硬掩膜(AHM)技術的VECTOR Express（于2007年6月推出）。VECTOR Express自推出以來迅速得到全球市場的認可，并已開始批量供貨。

批量生產的VECTOR Extreme預計將于2007下半年開始供貨。VECTOR Extreme實現了業界領先的生產量，同時還保持了諾發公司業經生產驗證的VECTOR Express PECVD系統的工藝透明性。